团队称，刻机此外，天工通常只能以二维方式逐层堆叠打印，序压学网其原理是缩至数分利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，并结合新型三维纳米打印技术，闻科
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| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，刻机现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，天工研究团队表示，序压学网
现阶段，缩至数分团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，闻科而非逐层堆叠，桌面钟新目前，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。新打印技术突破了这一限制。除芯片制造外，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，
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得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。加快新材料和新工艺开发。电脑等电子设备中的芯片。开发出一套体积更小、例如存储芯片和光子器件。传统方法虽然曝光打印过程较快，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，新技术能并行构建多个纳米层级结构，图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校 EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，实现更小尺寸半导体结构的制造，从而提升芯片计算性能。